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  • 為使濺射系統(tǒng)所用靶的數(shù)量減少,盡量用一個(gè)靶就能濺射沉積制取符合成分及性能要求的合金薄膜,可以采用合金靶、復(fù)合鑲嵌靶、以及采用多靶濺射等。一般說來,在放電穩(wěn)定狀態(tài)下,按照靶的成分,各種構(gòu)成原子分別受到濺射作用,濺射鍍膜比真空蒸鍍和離子鍍的一個(gè)...

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